纳米氧化铈研抛盘
纳米氧化铈研抛盘是以氧化铈材料为主,另由数种复合材料构成的,专用于光学及高档手机玻璃研磨抛光。可替代传统氧化铈抛光布及沥青抛光盘,其特点:不易变形.切削力佳.易修正平面度.寿命长.是常规氧化铈皮3-4倍的耐用度.标准厚度5-6MM,具有研磨和抛光的双重功效,在射灯下检测无任何划伤,直径100MM内平面度可达到一个光圈内,粗糙度0.2纳米左右,使用时间以12小时/天为计算,预计可以用2-3个月。是国内唯一一家针对光学行业的首创工艺技术!