a). 设备主体（铸铁）
b). 主轴控制系统
c). 砂轮自动修整系统
d). 冷却控制系统
e). PLC触摸式控制系统
f). 砂轮控制系统
a). 任意设置5片Ø2”芯片的加工条件，程序设置简单，可按工艺程序进行参数
变更并可加工用于研发的其它样品，找零与加工一次完成，中间不需人员操作
b). 砂轮与工件的零点确认
操作人员设定初步的零点后，设备通过砂轮转速的变化自动判定零点位置。加工完成后，
工件自动后退，取下工件后设备继续加工后续 产品
c). 自动设置加工起始点，设备加工过程中不进行测量，提高设备利用率
a) 砂轮控制系统
-滚球轴承
-马达 : 1.5kw, 220V, 50Hz, 3P
-砂轮进给马达
-线形测量系统
-砂轮规格: Ø150×5mm(t)×8mm(w)
-砂轮转速: 10~1,500 rpm 可变
-进给速度: 0.2~11㎛/sec
BILATERAL
b). 主轴控制系统
-滚球轴承
-三菱伺服马达: 0.5kw, 220V, 50Hz, 3P
-卡盘类型: 真空吸附方式
-工作轴转速: 10~600 rpm 可变
c). 操作面板
-PLC 控制
-触摸控制屏 12”
d). 驱动单元
-驱动电源: 380V, 50Hz, 3Phase, 7kW/30A
-驱动气压: 5.5 – 6kg f/㎠ (0.55 - 0.6Mpa) ø8
-空气消耗量: 100liter/min ,ø8
-冷却液循环
e). 消耗品及配件
-砂轮盘 #270mesh, Ø150cm : 1set
-油石 #280mesh : 2pcs
-冷却箱: 1set
-冷却液 20L
-标准工具箱
f). 设备尺寸: 1,480mm(W)×1,560mm(L)×1,320mm(H)
g). 设备重量: 1,700Kg
h). 预计产量: 7,000片/月
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研磨抛光设备亮点与传统设备对比（例：聚晶金刚石表面抛光处理）： |
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传统抛光方法及设备存在问题 |
NANO-MAX抛光设备优 |
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(1) 传统抛光设备的夹具（及其被夹持的工件）旋转中心与磨轮端面无相对运动。初始接触点（吻合度差）在局部相对集中，使得本应表面抛光变成“去量抛光”，由于聚晶金刚石硬、抛光使用的磨轮切削能力差，接触点（或面）向周围扩展相当缓慢，造成抛光时间超长，加工效率下 降。 |
(1) 抛光过程是磨轮与被抛光表面相互磨耗过程，NANO-MAX抛光机修面装置独特的夹具滑轮设置，使工件位移的同时，将磨轮端面高点修平，这不仅消除了被抛光表面可能出现的环形折光环，而且降低了磨轮端面平整度修整难度。 |
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(2) 由于抛光过程中，被抛光表面中部始终不离开磨轮端面，中部受摩擦热大于周边，且散热条件差，对于大面积、厚度薄的PCD制品，局部受热导致工件变形加剧。 |
(2) 被抛光表面中部和边缘与磨轮端面接触几率得到均衡，使工件各处受热均匀；再者，被抛光表面的大部分都有移出磨轮端面的时候，改善工件的散热条件，减小工件抛光过程产生的热变形。
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(3) 由于工件旋转中心与磨轮端面接触线固定，即使被抛光表面上各处均与磨轮接触（完全吻合），当工件被抛光表面宽度（长度或直径）大于磨轮环宽，各处的接触几率不同，工件外部的接触几率明显少于中部，使得被抛光表面易出现明暗不同的折光环，达不到质量要求。 |
(3) 缩短表面变形状态不同的工件同时抛光所需的时间差异。由于被抛光表面自适应与磨轮端面接触吻合，无需用修整磨轮端面的方法来适应被抛光表面，加之工件散热条件的改善，使得同一台抛光设备（用同一个磨轮）同时抛光两片大面积PCD制品得以实现。
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1.混合液剂的均匀分布 |
9.操作温度性 |
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2.工件受压力 |
10.磨盘平整度以及测量方法 |
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3.磨盘的速度 |
11.润滑油要求及润滑油的均匀分布 |
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4.磨盘的材质与特性 |
12.磨盘跳动周期速度 |
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5.磨盘表面纹理与形状 |
13.对工件施加的振动力 |
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6.车间条件 |
14.磨盘的装备与调节 |
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7.磨料的材质及粒度 |
15.调整轮的合理使用 |
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8.载体的类型 |
16.研磨材料与载体配比 |
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17.加工过程中废渣废屑处理 |
研磨抛光机在设计上充分考虑了以上因素，解决了传统设备不能解决的问题，在操作使用过程中更能发挥研磨抛光效果，使研磨抛光的工件达到更高水平的平行度，平面度，光洁度。 |
平面研磨机系列
